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等離子刻蝕機(jī)在化學(xué)品蝕刻中的應(yīng)用情況

更新時(shí)間:2020-09-27      點(diǎn)擊次數(shù):986
  等離子刻蝕機(jī)一般應(yīng)用于半導(dǎo)體加工領(lǐng)域,而等離子清洗機(jī)則一般應(yīng)用于材料領(lǐng)域。等離子清洗處理可改變材料的表面化學(xué)。因此能改變材料的表面性質(zhì)。例如,大氣或是氧氣等離子常用在聚合物(例如聚苯乙烯,聚乙烯)表面產(chǎn)生羥基。通常表面從疏水性(高水接觸角)改變至親水性(水接觸角小于30度),并增加表面潤(rùn)濕性能。等離子處理也能改變其它材料的表面化學(xué)(表面性質(zhì)),如硅、不銹鋼及玻璃。
  用低溫等離子體在適宜的工藝條件下處理PE、PP、PVF2、LDPE等材料,材料的表面形態(tài)發(fā)生顯著的變化,引入了多種含氧基團(tuán),使表面由非極性、難粘性轉(zhuǎn)為有一定極性、易黏性和親水性,有利于粘結(jié)、涂覆和印刷。
  等離子刻蝕機(jī)在化學(xué)品蝕刻中的應(yīng)用情況
  化學(xué)蝕刻是制造電路板的傳統(tǒng)方法。由錫或錫和鉛組成的蝕刻抗蝕劑保護(hù)銅箔的某些區(qū)域,而其余的銅被蝕刻掉。
  該工藝使用氨蝕刻液去除銅。氨溶液不會(huì)腐蝕錫或鉛,所以錫下的銅仍然是一根“導(dǎo)線”,或者是電子沿著完整電路板運(yùn)動(dòng)的路徑。
  化學(xué)蝕刻的質(zhì)量可以通過未被抗蝕劑保護(hù)的銅去除的完整性來定義。質(zhì)量還指痕跡邊緣的直線度和蝕刻底切的水平。
  蝕刻底切是由化學(xué)品的非定向蝕刻引起的,一旦發(fā)生向下蝕刻就允許側(cè)向蝕刻。較少的底切被認(rèn)為是更高的質(zhì)量。測(cè)量這些底切并把它稱之為“蝕刻因子”。
  蝕刻工藝中的所有步驟都是連接的,并且蝕刻質(zhì)量可能是蝕刻溶液或所用抗蝕劑的結(jié)果。
  化學(xué)蝕刻使用許多有害化學(xué)物質(zhì),并且不是環(huán)境友好的蝕刻工藝。
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