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簡要描述:AS真空快速退火爐,性能ZYUE,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃,Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
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AS-One真空快速退火爐,性能ZYUE,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃,Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
產(chǎn)品特點:
1、 紅外鹵素?zé)艄芗訜?,冷卻采用風(fēng)冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);
2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到初的熱處理效果;
3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設(shè)計,雙層不銹鋼;
冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點在于:1、無記憶,2、工藝重復(fù)性高,3、冷卻速度快;
4、反應(yīng)腔室的設(shè)計,氣體的進入口設(shè)計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;
5、快速數(shù)字PID控溫;
6、熱電偶配合高溫計控溫,測試樣品的溫度,控溫JIN準;
7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;
8、多5路工藝氣體,配數(shù)字質(zhì)量流量控制器;
9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度;
10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計,用于小樣品測試;
11、可選配分子泵,用于高真空測試;
產(chǎn)品標(biāo)準配置及規(guī)格參數(shù):
1、樣品Z大尺寸:AS-One100:4-inch;AS-One150 :6-inch;
2、紅外鹵素?zé)簦?/span>AS-One100 12支; Z大功率:30KW;
AS-One150 18支; Z大功率:34KW;
3、紅外鹵素?zé)衾鋮s方式:風(fēng)冷;
4、溫度范圍:AS-One100室溫~1250 ℃;(室溫~1500 ℃可選)
AS-One150室溫~1200 ℃;(室溫~1300 ℃可選)
5、升溫速率:AS-One100 :0.1 ℃~250 ℃/s ;
AS-One150 :0.1 ℃~200 ℃/s ;
6、溫度控制:快速數(shù)字PID控制;
7、熱電偶:2個K型熱電偶;(安裝中心和邊緣)
8、進氣口:位于石英窗下;
9、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計:壓力:2bars,多可配置5路;
10、配置真空泵及真空規(guī):真空度:10e-3 Torr;(分子泵選配10e-6 Torr)
11、尺寸:AS-One100:510*800*1425mm (W*D*H);
AS-One150:510*800*1425mm (W*D*H);
重量:AS-One100:194Kg;
AS-One150:凈重240Kg;
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