一、產(chǎn)品簡介：

MYCRO*荷蘭MMA16光刻機（Mask Aligner)，是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中MMA16掩碼對準器是一種高性能掩碼對準器，已經(jīng)過驗證的組件設計。該系統(tǒng)是一個理想的經(jīng)濟選擇研發(fā)，或有限的規(guī)模，試生產(chǎn)。我們采用了一種創(chuàng)新的系統(tǒng)，使基板快速而輕柔地拉平，在接觸曝光過程中實現(xiàn)平行光掩模對準和在晶圓上均勻接觸。該系統(tǒng)具有一微米的分辨率和校準精度。

MMA16的特點是一個可靠的紫外線光源，提供準直紫外線在近或深紫外光使用燈。雙傳感器、光反饋回路與恒定強度控制器相連，可將曝光強度控制在所需強度的±2%以內(nèi)?？梢钥焖俣菀椎馗淖僓V波長。這是一個靈活，經(jīng)濟的解決方案，任何入門級口對準和紫外線曝光應用。

MMA16面罩對準器軟件的特點是易于理解和Z越的人機工程學，減少了操作人員的培訓時間，使其更容易與系統(tǒng)一起工作

二、技術參數(shù)：

1、光掩模的尺寸：5英寸大；

2、晶片大?。捍?英寸(無定形)；

3、掩模架滑動：手動卡盤；

4、模板移動：X=±3mm, Y=±3mm；

5、曝光方法：支持接近式曝光，各種接觸式（軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸）曝光；

6、照明：250W超高壓燈

7、照明不均勻性：±5%

8、有效接觸面積：直徑100毫米

9、分辨率：3mµL/S

10、對齊方法：通過攝像頭查看

11、對齊物鏡：10 x(上/下)

12、總放大倍率：100 x

13、物鏡分離：15˜90毫米

14、對準范圍：X,Y=±4毫米

15、對準間隙：99年09年µm

16、對準精度：小于±5毫米

17、主機電源：220/50Hz, 16A (600W)

18、氮氣：0.4˜0.5 Mpa

19、真空壓力：小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)

20、主機尺寸：高度712mm×寬度700mm×深度 440mm

21、凈重：約250Kg

三、產(chǎn)品特點：

高分辨率打印

高精度X,Y,對準臺和顯微鏡操縱器

高強度光學配置

不同紫外線照射波長

低限度的操作員培訓

人體工學操作

易于理解用戶界面

易于進行所有組件的組裝

掩模對準器

無需預熱時間

價格低