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簡要描述:可編程真空回流焊爐,加熱區(qū)域直徑為200mm真空回流爐配備有一個由實(shí)心鋁制成的熱板,上面涂有陶瓷。另一個水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時,將冷板抬起并壓在熱板上,從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進(jìn)行冷卻。
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概括
真空回流焊爐配備有一個由實(shí)心鋁制成的熱板,上面涂有陶瓷。另一個水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時,將冷板抬起并壓在熱板上,從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進(jìn)行冷卻。
技術(shù)指標(biāo)
真空回流焊爐
工藝環(huán)境: | 氮?dú)?,惰性氣體,甲酸 |
Z高溫度: | 400℃ |
加熱面積: | ∅200mm |
加熱板: | 固定:鋁 |
加熱板上方的間隙: | 50mm |
加熱/冷卻斜坡: | 120-150℃/分鐘 |
控制偏差: | +/-0.5℃ |
加熱元件: | 集成在加熱板上的線圈加熱器 |
加熱控制: | 所有加熱器通用 |
加熱板冷卻: | 舉起冷盤 |
溫度測量: | 1x固定和多3x自由定位熱電偶K型 |
壓力測量: | 集成壓力變送器 |
Z大真空度: | 5x10-2mbar |
甲酸起泡器: | 40毫升容器,集成在前面板中 |
箱體冷卻: | 水/乙二醇-一體式冷水機(jī) |
蓋觀察口: | 80mm |
顯示: | 7英寸液晶觸摸屏 |
電腦軟件: | 工藝記錄,配方傳輸?shù)?/p> |
用戶界面: | 繼電器I/O的遠(yuǎn)程控制 |
外型尺寸: | 見布局 |
重量: | 35公斤 |
電源供應(yīng): | 220V,50Hz |
主營產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機(jī)
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