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Harrick 氣體流量控制器主要應(yīng)用于處理氣體的精密控制、在等離子清洗過程中氣體流混合和真空艙內(nèi)壓力監(jiān)控。

Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉.