u非常緊湊實用的系統(tǒng)

u在 365nm 處*單色曝光

u可處理 4 英寸晶圓

u硬（物理）接觸或軟（接近）接觸模式

u兼容所有光刻膠

u分辨率：2µm

u對準(zhǔn)分辨率：< 3µm

u由 PAD 引導(dǎo)

UV-KUB 3 是一種基于掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)的 UV-LED，具有 365nm 的可用光源。 這是一個非常緊湊的桌面系統(tǒng)，兼容 4 英寸晶圓和 100x100 mm2 工作表面。 由于特定的光學(xué)裝置可提供最大發(fā)散角小于 2° 的準(zhǔn)直光束，因此可實現(xiàn)的最小特征尺寸為 2 µm。 UV-KUB 3 系統(tǒng)兼容硬（物理）接觸或軟（接近）接觸模式，并提供低至 3 µm 的對準(zhǔn)分辨率。 該掩膜對準(zhǔn)器系統(tǒng)支持所有標(biāo)準(zhǔn)光刻膠，例如 AZ、Shipley、SU-8 和 K-CL。

掩膜對準(zhǔn)器UV-KUB 3是第一款配備UV-LED光源的掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，可在國際市場上提供一個好的的準(zhǔn)直和均勻曝光。這款新一代掩膜對準(zhǔn)器*由觸摸屏操作進(jìn)行曝光，通過操縱板控制進(jìn)行對準(zhǔn)操作。由于其防塵罩，該設(shè)備*安全，是市場上wei 一使精密光刻而無需潔凈室類型環(huán)境的解決方案。

技術(shù)突破：

1、高質(zhì)量準(zhǔn)直器

· 發(fā)散角小于2°，保證了在厚層上實現(xiàn)分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。

· 這種高質(zhì)量的準(zhǔn)直允許在不需要真空接觸模式的情況下達(dá)到微米級的分辨率。

2、LED技術(shù)

·完 mei的單色曝光光源

·冷紫外線源，防止不良熱效應(yīng)

·可以在連續(xù)或脈沖模式下運行

·壽命長：uv-led光源不屬于消耗品

3、分辨率和對準(zhǔn)精度

·這種新一代掩模對準(zhǔn)器能夠在整個4"或6"工作表面上實現(xiàn)低于1µm的微結(jié)構(gòu)，對準(zhǔn)精度小于1 µm

特征：

? 晶圓表面區(qū)域的完 mei單色曝光，帶寬低于 10 nm

? 由 PAD 引導(dǎo)的視頻輔助定位系統(tǒng)

? 冷紫外線照射和基板環(huán)境的實時原位溫度控制，在整個表面上的均勻照射，因此消除了任何不良的熱效應(yīng)

? 強(qiáng)大的功率密度

? LED 壽命長：受控實時使用時間超過 10 000 小時

? 用戶友好型觸摸屏界面，可設(shè)置曝光循環(huán)編程（連續(xù)或循環(huán)曝光）

? 無需預(yù)熱時間

? 紫外線源強(qiáng)度調(diào)節(jié)的計算機(jī)控制，很直觀

? 紫外線照射室*密封：保證用戶安全

? 自動晶圓裝載和卸載系統(tǒng)

? 低消耗

工藝應(yīng)用：

UV-KUB 3 系統(tǒng)非常適合實驗室和研發(fā)團(tuán)隊的廣泛應(yīng)用，這些應(yīng)用涉及光學(xué)、生物技術(shù)、微電子、需要多層掩膜、晶圓鍵合、簡單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物或細(xì)胞培養(yǎng)的光刻工藝。

技術(shù)參數(shù)：

UV-LED光源：

工作處理表面：

其他參數(shù)：

·尺寸：475(L)x 480(W)x 515(H)毫米

·重量：55千克/121磅

·彩色觸摸屏：15.6英寸

·功率密度：35 mW/cm2+/-10%

·電源：100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

·功率：180 W

·可與鍍鉻的和柔性薄膜掩膜版兼容