原子層沉積

簡(jiǎn)要描述：占地面積小的桌面系統(tǒng)（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。
整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態(tài)處理模式
全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C

產(chǎn)品型號(hào)：AT410
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-05-17
訪問(wèn) 量：786

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占地面積小的桌面系統(tǒng)，兼容無(wú)塵室。
占地面積小的桌面系統(tǒng)（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。
整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態(tài)處理模式
全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C
7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無(wú)需 PC）
包括終身軟件升級(jí)
1 年保修（包括零件）
AT610
全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C
具有超快 MFC 的高溫半導(dǎo)體級(jí)快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。
6″ 圓形卡盤（7″ 方形）可定制為更小的尺寸或其他形狀（11 毫米高）。
流線型腔體設(shè)計(jì)，腔體體積小
3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。

前體可以加熱到 150°C。

整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。
簡(jiǎn)單的系統(tǒng)維護(hù)和市場(chǎng)上的公用事業(yè)和前體使用
高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態(tài)處理模式
7″ 觸摸屏 PLC 控制器（無(wú)需 PC）

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